03 · 노광 공정

셀 노광 시스템.

터치스크린 패널 투명전극 노광용으로, 4개의 셀을 동시에 전자동 노광합니다. 전자동 노광을 위해 Proximity 방식을 채택한 대량 생산용 시스템입니다.

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셀 노광 시스템 장비 사진

주요 특징.

  1. 01미세 선폭 구현고효율 1kW UV 노광 모듈과 X, Y, Z, θ 정밀 정렬 시스템
  2. 02전자동 시스템자동 로딩·언로딩, 컨베이어, 자동 정렬
  3. 03높은 생산성짧은 택트 타임으로 월 20만 장 양산 가능
  4. 04넓은 노광 면적빔 크기 최대 200 × 200mm, 균일도 ±5% 이내, 365nm 15 ~ 20mW/㎠

제품 사양.

User spec 협의 가능
장비셀 노광 시스템4 Head, Proximity 전자동 노광이 사양으로 견적 의뢰
Mask Size
Max 9 × 9 inch
Substrate Size
3.5” ~ 6.3”
Lamp Power
1 ~ 2kW
Lamp Head
4 Head
UV Beam Size
8.25 × 8.25 inch
Beam Uniformity
±5%
Beam Intensity
365nm : 20 ~ 40mW/㎠
Alignment Accuracy
±5㎛
Resolution
50㎛ / proximity 5㎛ (Thin PR @ Si wafer 기준)
Contact Mode
Proximity
Microscope
Dual Motorizing Zoom Microscope
Operation System
Auto
Tact time
50만 장 / 월

함께 보는 장비.

전체 제품 ↗
Mask Aligner 장비 사진
01 · 노광Mask Aligner
Mask Aligner 150 Series 장비 사진
02 · 노광Mask Aligner 150 Series
Exposure System 장비 사진
04 · 노광Exposure System

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