01 · 노광 공정 · Optical lithography
Mask Aligner.
감광액(PR)이 도포된 웨이퍼나 유리기판 위에 포토마스크를 올리고 UV를 조사해 미세 패턴을 얻는 Optical Lithography 장비입니다. 정밀 얼라인먼트로 다양한 정밀정렬과 패터닝에 쓰입니다.
기술 상담 042-936-8801 · 평일 09:00 - 18:00
01 · 노광 공정 · Optical lithography
감광액(PR)이 도포된 웨이퍼나 유리기판 위에 포토마스크를 올리고 UV를 조사해 미세 패턴을 얻는 Optical Lithography 장비입니다. 정밀 얼라인먼트로 다양한 정밀정렬과 패터닝에 쓰입니다.
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10개 모델을 기판 크기와 운용 방식에 따라 고를 수 있습니다. 모델을 선택하면 전체 사양을 보여 드립니다.
| 모델 | 마스크 | 기판 | 광원 | 해상도 | 운용 |
|---|---|---|---|---|---|
| M-100 | 5” × 5” | ~4” | 350W | 1㎛ | 수동 |
| M-150 | 7” × 7” | ~6” | 350W | 1㎛ | 수동 |
| S-150 | 7” | 6” | 1kW | 1㎛ | 수동 / 반자동 |
| P-150 | 7” × 7” | ~6” | 350W | 1㎛ | 수동 |
| S-200 | 7”~14” | 6”~12” | 350~2000W | 1㎛ | 반자동 |
| F-200 | 9” × 9” | 8” | 1000W | 1㎛ | 전자동 |
| S-300 | 7”~14” | 6”~12” | 350~2000W | 1㎛ | 반자동 |
| M-500 | 500 × 500mm 이상 | 370 × 470mm | 5000W | 10㎛ | PLC 터치 |
| T-700 | 빔 800 × 800mm | 700 × 700mm | 8kW NUV | < 10㎛ | 자동 / 반자동 |
| L-100 | 7” × 7” | ~6” | UV LED | 1㎛ | 수동 |
공정 조건에 맞는 사양을 상담하세요.
평일 09:00 - 18:00 · 042-936-8801
