04 · 노광 공정

Exposure System.

감광액(PR)이 도포된 웨이퍼나 유리기판 위에 포토마스크를 올리고 UV를 조사해 미세 패턴을 얻는 Optical Lithography 장비입니다. 정렬 없이 단층 패터닝에 사용합니다.

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제품 사양.

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장비Exposure System정렬 없는 단층 패터닝용 노광기이 사양으로 견적 의뢰
Mask Size
5 ~ 7 inch
Substrate Size
4 ~ 6”
Lamp Power
350 Watt (Mercury lamp)
Wave Length
350 ~ 450nm
UV Intensity
15 ~ 25mW/㎠
UV Beam Uniformity
3 ~ 5%
Contact Mode
Vacuum / Hard / Soft

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